Seto 1.60 fotokromisk linse SHMC

1) Hvad er spinbelægning?

Spinbelægning er en procedure, der bruges til at deponere ensartede tynde film på flade underlag. Normalt påføres en lille mængde belægningsmateriale på midten af ​​underlaget, som enten er spinding med lav hastighed eller slet ikke snurrer overhovedet. Substratet drejes derefter med hastighed op til 10.000 o / min for at sprede belægningsmaterialet med centrifugalkraft. En maskine, der bruges til spinbelægning, kaldes en spin coater eller simpelthen spinner.
Rotation fortsættes, mens væsken drejes fra kanterne på underlaget, indtil den ønskede tykkelse af filmen er opnået. Det påførte opløsningsmiddel er normalt flygtigt og fordamper samtidig. Jo højere vinkelhastighed af spinding, jo tyndere filmen. Filmens tykkelse afhænger også af viskositeten og koncentrationen af ​​opløsningen og opløsningsmidlet. [2] Banebrydende teoretisk analyse af spinbelægning blev foretaget af Emslie et al., Og er blevet udvidet af mange efterfølgende forfattere (inklusive Wilson et al., [4], der studerede hastigheden for spredning i spinbelægning; og Danglad-Flores et al., [5] der fandt en universel beskrivelse for at forudsige den deponerede filmtykkelse).
Spinbelægning bruges i vid udstrækning i mikrofabrikation af funktionelle oxidlag på glas eller enkeltkrystallsubstrater ved hjælp af sol-gel-precursorer, hvor det kan bruges til at skabe ensartede tynde film med nanoskala-tykkelser. [6] Det bruges intensivt i fotolitografi, til at deponere lag af fotoresist ca. 1 mikrometer tyk. Photoresist er typisk spundet med 20 til 80 omdrejninger i sekundet i 30 til 60 sekunder. Det er også vidt brugt til fremstilling af plane fotoniske strukturer lavet af polymerer.
En fordel ved at spinde belægning af tynde film er ensartetheden af ​​filmtykkelsen. På grund af selvniveau varierer tykkelser ikke mere end 1%. Imidlertid kan spinbelægning af tykkere film af polymerer og fotoresister resultere i relativt store kantperler, hvis planarisering har fysiske grænser.